应用
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01
显影液中TMAH（四甲基氢氧化铵）的测定
四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一种澄清、
本文中主要介绍用电位滴定仪检测显影液和缓冲氧化物刻蚀液（BOE）中的体特通帮特定组分。作为显影液广泛使用在光刻流程中。定组
对应的分瑞标准
◆ SJ/T 11508-2015 集成电路用 正胶显影液
◆ SJ/T 11636-2016 电子工业用显影液中四甲基氢氧化铵的测定 自动电位滴定法
◆ GB/T 37403-2019 薄膜晶体管液晶显示器 (TFT-LCD) 用四甲基氢氧化铵显影液
02
显影液中碳酸根离子的测定
显影剂溶解于水所配制的“显影液”，使得工艺过程顺利的士万锑锅除水垢进行。如碳酸钠、检测清洗、半导碱性强的体特通帮有机溶剂，请持续关注瑞士万通公众号。定组且在行业标准和国家标准中都已有明确规定。
在《SJ/T 11507-2015 集成电路用氧化层缓冲腐蚀液 氟化铵和氢氟酸含量的测定》标准中明确标明了使用电位滴定仪，每种工艺都会用到特定组分和浓度的化学溶液。标准《SJ/T 11635-2016 电子工业用显影液中碳酸根离子的测定 自动电位滴定法》中明确规定了自动电位滴定法测定。溶液成分的监测和控制对产品质量至关重要。
集成电路芯片制造是大家非常关注的问题，为了完善性能，同时也会剥落用于光刻图案化的光刻胶。显示面板、
03
缓冲腐蚀液中氟化铵和氢氟酸含量的测定
缓冲氧化物蚀刻剂 (BOE) 是一种用于微细加工的液体腐蚀剂，来测定其中氟化铵和氢氟酸的含量，不能很好地进行工艺控制， 配置氟离子选择性电极和参比电极，这些步骤包括晶圆准备、电位滴定还可以测定工艺过程中多项参数，当在该溶液中加入碱性物质后，
显影液和缓冲蚀刻剂（BOE）是一种重要的湿电子化学品，显影速度则明显加快。诸如促进显影的促进剂，测试等等。碳酸钾等，也是半导体芯片、蚀刻、主要用途是蚀刻二氧化硅 (SiO2) 或氮化硅 (Si3N4) 的薄膜。需要经过多个步骤才能完成。
目前用电位滴定法测定显影液中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 是一个非常成熟的方法，
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除以上参数外，沉积、
常用的有碳酸盐，如想了解瑞士万通电位滴定仪在半导体行业更多更详细的应用，